기판처리장치의 진공펌핑 시스템 및 이를 이용한이송챔버의 진공펌핑 방법

Vacuum pumping system of substrate processing apparatus and method of vacuum pumping transfer chamber using the same

Abstract

A vacuum pumping system of a substrate process apparatus and a vacuum pumping method of a transfer chamber using the same are provided to increase productivity per unit area by vacuum-pumping the load lock chamber and the transfer chamber with the same vacuum pump. A transfer chamber(10) has a substrate transfer apparatus therein. Load lock chambers(31,32) are coupled around the transfer chamber and repeat vacuum condition and atmosphere pressure condition to exchange a substrate with the outside. The transfer chamber and the load lock chambers are exhausted by a same vacuum pump(130). An exhaust line(116) for the transfer chamber is connected to the transfer chamber. Exhaust lines(112,114) for the load lock chamber are connected to the load lock chambers. The exhaust lines are connected by the vacuum pump. An exhaust valve(126) for the transfer chamber is installed on the exhaust line for the transfer chamber to be opened and shut. Exhaust valves(122,124) for the load lock chamber are installed on the exhaust lines for the load lock chamber. The exhaust valves are not opened at the same time together with the exhaust valve for the transfer chamber.
본 발명은, 반도체소자 또는 액정표시장치를 제조하는 기판처리장치의 진공펌핑 시스템 및 이를 이용한 이송챔버의 진공펌핑 방법에 관한 것으로서, 제1 실시예는 이송챔버에 연결되는 이송챔버용 배기라인을 로드락챔버용 진공펌프에 연결함으로써 이송챔버용 진공펌프를 생략한 시스템 및 방법에 관한 것이고, 제2 실시예는 이송챔버용 배기라인을 생략하고 로드락챔버를 통해 이송챔버를 진공펌핑하는 시스템 및 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 로드락챔버를 진공펌핑하는데 이용되는 진공펌프를 이용하여 이송챔버까지 진공펌핑할 수 있으므로, 종래 이송챔버에 연결되었던 진공펌프를 생략할 수 있다. 따라서 기판처리장치의 장치구성이 단순해질 뿐만 아니라 설치면적이 줄어들어 단위 면적당 생산성을 높일 수 있게 된다.

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    KR-101399654-B1June 03, 2014(주)엘티엘챔버와 진공차단장치의 진공 밸런싱 장치
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