기판 처리 시스템, 기판의 처리 방법 및 컴퓨터 독취가능한 기억 매체

Substrate processing system, substrate processing method, and computer-readable recording medium

Abstract

A substrate processing system, a substrate processing method and a computer readable storing medium are provided to restrain the difference of CD(Critical Dimension) of a resist pattern between substrates. A substrate processing system(1) includes at least a coating treatment apparatus for coating a resist solution on a substrate; a development processing apparatus for performing a developing process on the substrate and a heat treatment apparatus for performing a thermal treatment on the substrate. One out of the coating treatment apparatus, the development processing apparatus and the heat treatment apparatus includes a plurality of processing portions.
본 발명은 기판 처리시스템, 기판 처리방법 및 컴퓨터 독취가능한 기억매체에 관한 것으로서 도포 현상 처리 시스템의 가열 처리 장치의 기초대상에, 복수의 열처리판이 직선 형상으로 나열하여 설치된다. 가열 처리 장치에는, 서로 이웃이 되는 열처리판간의 각 구간의 기판의 반송을 실시하는 3개의 반송 부재군이 설치된다. 가열 처리 장치에 있어서 프리 베이킹 처리를 할 때에는 온도가 동일한 열처리판에 기판이 차례로 반송되어 각 열처리판에 있어서 열처리가 분할하여 행해진다. 본 발명에 의하면 각 기판이 같은 경로에서 열처리 되기 때문에 기판간에 열이력이 일정하게 되는 기술을 제공한다.

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